Подпишитесь на наши новости
Вернуться к началу с статьи up
 

ИЗЛУЧЕ́НИЕ ПЛА́ЗМЫ

  • рубрика

    Рубрика: Физика

  • родственные статьи
  • image description

    В книжной версии

    Том 11. Москва, 2008, стр. 5

  • image description

    Скопировать библиографическую ссылку:




Авторы: В. И. Коган, В. С. Лисица

ИЗЛУЧЕ́НИЕ ПЛА́ЗМЫ, элек­тро­маг­нит­ные вол­ны (в диа­па­зо­не от ра­дио­волн до рент­ге­нов­ских), ис­пус­кае­мые час­ти­ца­ми плаз­мы при их ин­ди­ви­ду­аль­ном или кол­лек­тив­ном дви­же­нии. Ин­тен­сив­ность и спек­траль­ный со­став из­лу­че­ния от­ра­жа­ют со­стоя­ние плаз­мы, по­это­му ис­поль­зу­ют­ся для её ди­аг­но­сти­ки. И. п. яв­ля­ет­ся так­же од­ним из гл. ка­на­лов её энер­ге­тич. по­терь; су­ще­ст­вен­на его роль в ус­та­нов­ле­нии тер­мо­ди­на­мич. со­стоя­ния плаз­мы – рас­пре­де­ле­ния ио­нов по крат­но­стям ио­ни­за­ции, по воз­бу­ж­дён­ным энер­ге­тич. уров­ням и т. п.

И. п. ха­рак­те­ри­зу­ет­ся ин­тен­сив­но­стью эле­мен­тар­ных про­цес­сов ис­пус­ка­ния; спек­траль­ной из­лу­ча­тель­ной спо­соб­но­стью, т. е. рас­пре­де­ле­ни­ем по час­то­те $\text{ω}$ фо­то­нов, ро­ж­дае­мых в еди­ни­це объ­ё­ма оп­ти­че­ски тон­ко­го слоя плаз­мы; пол­ным по­то­ком из­лу­че­ния плаз­мен­ной сис­те­мы с учё­том мно­го­крат­но­го по­гло­ще­ния-ис­пус­ка­ния из­лу­че­ния в её объ­ё­ме (для оп­ти­че­ски тол­стой плаз­мы).

Осн. ме­ха­низ­мы И. п. оп­ре­де­ля­ют­ся как ин­ди­ви­ду­аль­ны­ми свой­ст­ва­ми за­ря­жен­ных и ней­траль­ных час­тиц, об­ра­зую­щих плаз­мен­ную сис­те­му, так и её кол­лек­тив­ны­ми свой­ст­ва­ми – ко­ле­ба­тель­но-вол­но­вы­ми ха­рак­те­ри­сти­ка­ми (см. Вол­ны в плаз­ме). Ин­ди­ви­ду­аль­ны­ми свой­ст­ва­ми час­тиц оп­ре­де­ля­ют­ся: ли­ней­ча­тое из­лу­че­ние (ЛИ), воз­ни­каю­щее при пе­ре­хо­де элек­тро­на в ато­ме или ио­не ме­ж­ду дву­мя дис­крет­ны­ми энер­ге­тич. уров­ня­ми; фо­то­ре­ком­би­на­ци­он­ное из­лу­че­ние (ФИ), об­ра­зую­щее­ся при за­хва­те сво­бод­но­го элек­тро­на на один из дис­крет­ных энер­ге­тич. уров­ней ато­ма или ио­на; тор­моз­ное из­лу­че­ние (ТИ) сво­бод­но­го элек­тро­на в по­ле ио­на; цик­ло­трон­ное из­лу­че­ние (ЦИ) элек­тро­на при его вра­ще­нии в маг­нит­ном по­ле. В ос­но­ве этих ти­пов И. п. ле­жит ус­ко­ре­ние элек­тро­нов во внеш­нем элек­трич. или маг­нит­ном по­ле. Ха­рак­тер­ные час­то­ты И. п. оп­ре­де­ля­ют­ся уг­ло­вы­ми ско­ро­стя­ми $w$ по­во­ро­та час­тиц при их дви­же­нии по кри­во­ли­ней­ным тра­ек­то­ри­ям. Пол­ная ин­тен­сив­ность из­лу­че­ния оп­ре­де­ля­ет­ся ве­ли­чи­ной $I = (2/3)e^2w^2/c^3$ ($e$ – за­ряд элек­тро­на, $c$ – ско­рость све­та), а рас­пре­де­ле­ние ин­тен­сив­но­сти $I_ω$ по спек­тру час­тот – фу­рье-ком­по­нен­той $I_w = (2/3)e^2/w^2_w/c^3$. Раз­ли­чия в ти­пе по­ля, вы­зы­ваю­ще­го ус­ко­ре­ние элек­тро­нов, при­во­дят к рез­ким раз­ли­чи­ям как пол­ных ин­тен­сив­но­стей $I$, так и ин­тен­сив­но­стей ха­рак­тер­ных из­лу­чае­мых час­тот $I_ω$. В слу­чае пе­рио­дич. вра­ще­ния элек­тро­на (напр., для ЛИ и ЦИ) спектр из­лу­че­ния дис­кре­тен, в про­тив­ном слу­чае он не­пре­ры­вен (спек­тры ТИ и ФИ). Для не­пре­рыв­но­го спек­тра ФИ ха­рак­тер­но на­ли­чие скач­ков, от­ве­чаю­щих ре­ком­би­на­ции на отд. дис­крет­ные энер­ге­тич. уров­ни ио­на. В спек­тре ЛИ вслед­ст­вие от­но­си­тель­но ма­лой ско­ро­сти ато­мов и ио­нов до­п­ле­ров­ские сдви­ги час­то­ты не­ве­ли­ки, и дис­крет­ность спек­тра со­хра­ня­ет­ся. В спек­тре ЦИ эти сдви­ги обу­слов­ле­ны дви­же­ни­ем го­раз­до бо­лее бы­ст­рых элек­тро­нов и при­во­дят для ти­пич­ных ус­ло­вий тер­мо­ядер­ной плаз­мы с элек­трон­ной темп-рой бо­лее 10 кэВ к слия­нию вы­со­ких гар­мо­ник ЦИ в не­пре­рыв­ный спектр – кон­ти­ну­ум.

И. п. кол­лек­тив­но­го про­ис­хо­ж­де­ния обу­слов­ле­но ус­ко­ре­ни­ем элек­тро­нов, дви­жу­щих­ся сфа­зи­ро­ван­но в по­ле плаз­мен­ных ко­ле­ба­ний и, сле­до­ва­тель­но, из­лу­чаю­щих ко­ге­рент­но. По­это­му из­лу­че­ние ока­зы­ва­ет­ся свя­зан­ным с час­тот­ны­ми ха­рак­те­ри­сти­ка­ми плаз­мен­ных ко­ле­ба­ний, и его мож­но рас­смат­ри­вать как про­яв­ле­ние ре­зо­нан­сов во взаи­мо­дей­ст­ви­ях час­тиц с вол­на­ми. Оно силь­но за­ви­сит от сте­пе­ни не­рав­но­вес­но­сти плаз­мы и её ус­той­чи­во­сти по от­но­ше­нию к са­мо­воз­бу­ж­де­нию тех или иных волн. Для ус­той­чи­вой плаз­мы, близ­кой к со­стоя­нию тер­мо­ди­на­мич. рав­но­ве­сия, та­кое из­лу­че­ние но­сит спон­тан­ный ха­рак­тер и оп­ре­де­ля­ет­ся её ди­элек­трич. свой­ст­ва­ми, а так­же гра­нич­ны­ми ус­ло­вия­ми. Осн. ти­пы И. п. в этом слу­чае сле­дую­щие: че­рен­ков­ское из­лу­че­ние (см. Ва­ви­ло­ва – Че­рен­ко­ва из­лу­че­ние), пе­ре­ход­ное из­лу­че­ние, из­лу­че­ние, воз­ни­каю­щее при не­ли­ней­ном взаи­мо­дей­ст­вии про­доль­ных волн с по­пе­реч­ны­ми, а так­же при транс­фор­ма­ции про­доль­ных волн в по­пе­реч­ные на гра­ни­це плаз­мы или на её не­од­но­род­но­стях.

Ин­тен­сив­ность кол­лек­тив­ных ме­ха­низ­мов из­лу­че­ния рез­ко воз­рас­та­ет в не­ус­той­чи­вой плаз­ме. Обыч­но в та­ких слу­ча­ях на­блю­да­ет­ся ин­ду­ци­ро­ван­ное из­лу­че­ние то­го или ино­го про­ис­хо­ж­де­ния. Ин­тен­сив­ность И. п. кол­лек­тив­но­го про­ис­хо­ж­де­ния оп­ре­де­ля­ет­ся кон­крет­ным ме­ха­низ­мом не­ус­той­чи­во­сти.

Для из­лу­чаю­щей плаз­мы ха­рак­тер­но взаи­мо­влия­ние из­лу­че­ния и ве­ще­ст­ва. Дей­ст­ви­тель­но, с од­ной сто­ро­ны, из­лу­че­ние обу­слов­ле­но ус­ко­ре­ни­ем час­тиц и его спектр фор­ми­ру­ет­ся их те­п­ло­вым дви­же­ни­ем, но с дру­гой стороны – ра­ди­ац. по­те­ри энер­гии плаз­мы ог­ра­ни­чи­ва­ют её темп-ру, т. е. ин­тен­сив­ность дви­же­ния час­тиц. В го­ря­чей раз­ре­жен­ной плаз­ме И. п. име­ет оп­ре­де­ляю­щее зна­че­ние так­же и в фор­ми­ро­ва­нии рас­пре­де­ле­ний ио­нов по крат­но­стям ио­ни­за­ции. Эти рас­пре­де­ле­ния вме­сте с мак­свел­лов­ским рас­пре­де­ле­ни­ем элек­тро­нов по ско­ро­стям об­ра­зу­ют «пол­ный на­бор» из­лу­ча­те­лей для ЛИ, ТИ, ФИ и ЦИ. В свою оче­редь, час­ти­цы плаз­мы влия­ют на фор­му из­лу­чае­мых спек­тров (уши­ряя спек­траль­ные ли­нии) и на рас­про­стра­не­ние из­лу­че­ния в по­гло­щаю­щей сре­де, что при­во­дит к яв­ле­нию т. н. за­пи­ра­ния И. п., ко­гда из­лу­че­ние вы­хо­дит не из все­го объ­ё­ма плаз­мы, а толь­ко из её внеш­них сло­ёв.

При­чи­на­ми уши­ре­ния ли­ний в плаз­ме яв­ля­ют­ся эф­фек­ты До­п­ле­ра, Штар­ка и Зее­ма­на. Те­п­ло­вой раз­брос ско­ро­стей из­лу­чаю­щих час­тиц при­во­дит вслед­ст­вие эф­фек­та До­п­ле­ра к раз­бро­су из­лу­чае­мых час­тот; мед­лен­но ме­няю­щие­ся по­ля ио­нов ве­дут к т. н. ста­тич. уши­ре­нию, а быс­тро­пе­ре­мен­ные по­ля элек­тро­нов – к удар­но­му уши­ре­нию. Не­од­но­род­ность маг­нит­но­го по­ля так­же при­во­дит к уши­ре­нию ли­ний ЦИ, ко­то­рое, напр., в плаз­ме то­ка­ма­ка мо­жет пре­взой­ти до­п­ле­ров­ское.

Лит.: Бе­ке­фи Дж. Ра­диа­ци­он­ные про­цес­сы в плаз­ме. М., 1971; Би­бер­ман Л. М., Во­робь­ев BC., Яку­бов И. Т. Ки­не­ти­ка не­рав­но­вес­ной низ­ко­тем­пе­ра­тур­ной плаз­мы. М., 1982; Эн­цик­ло­пе­дия низ­ко­тем­пе­ра­тур­ной плаз­мы / Под ред. В. Е. Фор­то­ва. М., 2000. Т. 1; Мо­ро­зов А. И. Вве­де­ние в плаз­мо­ди­на­ми­ку. М., 2006.

Вернуться к началу