ЭЛЕКТРО́ННАЯ ПУ́ШКА

ЭЛЕКТРО́ННАЯ ПУ́ШКА, уст­рой­ст­во для фор­ми­ро­ва­ния элек­трон­но­го пуч­ка (по­то­ка) за­дан­ной фор­мы и ин­тен­сив­но­сти. Со­дер­жит ис­точ­ник элек­тро­нов (ка­тод), ус­ко­ряю­щий элек­трод (анод), а так­же др. элек­тро­ды, соз­даю­щие не­об­хо­ди­мое рас­пре­де­ле­ние элек­трич. по­ля. Один из осн. уз­лов элек­тро­ва­ку­ум­ных при­бо­ров, элек­трон­ных мик­ро­ско­пов, элек­трон­но-лу­че­вых тех­но­ло­гич. ус­та­но­вок и др. Су­ще­ст­ву­ет боль­шое раз­но­об­ра­зие ти­пов, кон­ст­рук­ций и ре­жи­мов ра­бо­ты Э. п. Фор­ма и рас­по­ло­же­ние элек­тро­дов Э. п. оп­ре­де­ля­ют па­ра­мет­ры элек­трон­но­го пуч­ка, в ча­ст­но­сти ве­ли­чи­ну его пер­ве­ан­са P (от­но­ше­ние то­ка элек­тро­нов к анод­но­му на­пря­же­нию в сте­пе­ни трёх вто­рых). Э. п. для фор­ми­ро­ва­ния не­ин­тен­сив­но­го пуч­ка (P≪10^–8 АВ^–3/2) обыч­но ком­би­ни­ру­ют с элек­тро­да­ми, об­ра­зую­щи­ми фо­ку­си­рую­щую элек­трон­ную лин­зу, и на­зы­ва­ют элек­трон­ным про­жек­то­ром. Для фор­ми­ро­ва­ния ин­тен­сив­ных пуч­ков (P≫10^–8 АВ^–3/2), гл. обр. в элек­тро­ва­ку­ум­ных СВЧ-при­бо­рах, наи­боль­шее рас­про­стра­не­ние по­лу­чи­ли Э. п. со схо­дя­щим­ся элек­трон­ным по­то­ком, плот­ность то­ка ко­то­ро­го в ми­ним. се­че­нии (крос­со­ве­ре) в неск. де­сят­ков раз вы­ше плот­но­сти то­ка эмис­сии ка­то­да. При­ме­ня­ют­ся так­же Э. п., фор­ми­рую­щие труб­ча­тые (в т. ч. по­лые), лен­точ­ные и др. пуч­ки.