ПЛА́ЗМЕННАЯ ЭЛЕКТРО́НИКА

  • рубрика
  • родственные статьи
  • image description

    В книжной версии

    Том 26. Москва, 2014, стр. 329

  • image description

    Скопировать библиографическую ссылку:




Авторы: А. А. Рухадзе

ПЛА́ЗМЕННАЯ ЭЛЕКТРО́НИКА, раз­дел фи­зи­ки плаз­мы, изу­чаю­щий кол­лек­тив­ные взаи­мо­дей­ст­вия плот­ных по­то­ков (пуч­ков) за­ря­жен­ных час­тиц с плаз­мой и га­зом, при­во­дя­щие к воз­бу­ж­де­нию в сис­те­ме ли­ней­ных и не­ли­ней­ных элек­тро­маг­нит­ных волн и ко­ле­ба­ний, и ис­поль­зо­ва­ние эф­фек­тов та­ко­го взаи­мо­дей­ст­вия. При­клад­ные за­да­чи, ко­то­рые ста­вит и ре­ша­ет П. э., оп­ре­де­ля­ют её осн. раз­де­лы: плаз­мен­ная СВЧ-элек­тро­ни­ка, изу­чаю­щая воз­бу­ж­де­ние в плаз­ме ин­тен­сив­но­го ко­ге­рент­но­го элек­тро­маг­нит­но­го из­лу­че­ния, на­чи­ная от ра­дио­диа­па­зо­на и вплоть до оп­тич. диа­па­зо­на длин волн; плаз­мен­ные ус­ко­ри­те­ли, ос­но­ван­ные на яв­ле­нии кол­лек­тив­но­го ус­ко­ре­ния тя­жё­лых за­ря­жен­ных час­тиц элек­трон­ны­ми пуч­ка­ми и вол­на­ми в плаз­ме; плаз­мен­но-пуч­ко­вый раз­ряд, ос­но­ван­ный на кол­лек­тив­ном ме­ха­низ­ме взаи­мо­дей­ст­вия плот­ных пуч­ков за­ря­жен­ных час­тиц с га­зом; тур­бу­лент­ный на­грев плаз­мы плот­ны­ми пуч­ка­ми за­ря­жен­ных час­тиц и кол­лек­тив­ные про­цес­сы при транс­пор­ти­ров­ке и фо­ку­си­ров­ке пуч­ков в про­бле­ме управ­ляе­мо­го тер­мо­ядер­но­го син­те­за (УТС); плаз­мо­хи­мия.

Историческая справка

П. э. воз­ник­ла по­сле тео­ре­тич. пред­ска­за­ния А. И. Ахие­зе­ром и Я. Б. Файн­бер­гом (1948, СССР), Э. Грос­сом и Д. Бо­мом (1949, США) яв­ле­ния пуч­ко­вой не­ус­той­чи­во­сти, пред­став­ляю­ще­го со­бой вы­ну­ж­ден­ное че­рен­ков­ское из­лу­че­ние (см. Ва­ви­ло­ва Че­рен­ко­ва из­лу­че­ние) плот­ным мо­но­энер­ге­тич. пуч­ком элек­тро­нов про­доль­ных элек­тро­маг­нит­ных волн в плаз­ме. Обоб­ще­ние тео­ре­тич. и экс­пе­рим. ис­сле­до­ва­ний вы­ну­ж­ден­но­го че­рен­ков­ско­го из­лу­че­ния в плаз­ме на слу­чай ре­ля­ти­ви­ст­ских элек­трон­ных пуч­ков при­ве­ло к соз­да­нию сверх­мощ­ных ис­точ­ни­ков мик­ро­вол­но­во­го из­лу­че­ния с ши­ро­кой пе­ре­строй­кой час­тот. Один из осн. на­прав­ле­ний кол­лек­тив­ных ме­то­дов ус­ко­ре­ния – ме­тод ус­ко­ре­ния элек­тро­нов и ио­нов вол­на­ми плот­но­сти за­ря­да в плаз­ме и не­ком­пен­си­ров. пуч­ках за­ря­жен­ных час­тиц (Я. Б. Файн­берг, 1956). В 1965 Е. К. За­вой­ский и Файн­берг пред­ло­жи­ли ис­поль­зо­вать элек­трон­ные пуч­ки и воз­бу­ж­дае­мые ими элек­тро­маг­нит­ные вол­ны для пуч­ко­во­го и тур­бу­лент­но­го на­гре­ва плаз­мы.

Па­рал­лель­но раз­ви­ва­лись на­прав­ле­ния в об­лас­ти сла­бо­ио­ни­зо­ван­ной плаз­мы. От­кры­тие плаз­мен­но-пуч­ко­во­го раз­ря­да (1961) по­слу­жи­ло ос­но­вой соз­да­ния но­вых ис­точ­ни­ков плаз­мы и раз­ви­тию плаз­мен­ных тех­но­ло­гий. Не­рав­но­вес­ная плаз­ма пуч­ко­во­го раз­ря­да яв­ля­ет­ся ра­бо­чим ве­ще­ст­вом в плаз­мо­хи­мич. ре­ак­то­рах по раз­де­ле­нию изо­то­пов, в кван­то­вых ге­не­ра­то­рах ко­ге­рент­но­го оп­ти­че­ско­го из­лу­че­ния – плаз­мен­ных ла­зе­рах и ма­зе­рах и др.

Коллективные взаимодействия

В ос­но­ве П. э. ле­жат про­цес­сы вы­ну­ж­ден­но­го из­лу­че­ния и по­гло­ще­ния элек­тро­маг­нит­но­го из­лу­че­ния за­ря­жен­ны­ми час­ти­ца­ми: од­но­час­тич­ный и кол­лек­тив­ный эф­фек­ты Че­рен­ко­ва, нор­маль­ный и ано­маль­ный До­п­ле­ра эф­фек­ты, цик­ло­трон­ное и син­хро­трон­ное из­лу­че­ние и по­гло­ще­ние, он­ду­ля­тор­ное из­лу­че­ние, па­ра­мет­рич. ре­зо­нанс­ное из­лу­че­ние, пе­ре­ход­ное из­лу­че­ние, том­со­нов­ское и ком­пто­нов­ское рас­сея­ние, Ман­дель­шта­ма – Брил­лю­эна рас­сея­ние и др. Ес­ли в плаз­ме оп­ре­де­лён­ная груп­па час­тиц со­вер­ша­ет упо­ря­до­чен­ное дви­же­ние, то при дос­та­точ­но боль­шой их плот­но­сти име­ет ме­сто вы­ну­ж­ден­ное из­лу­че­ние элек­тро­маг­нит­ных волн: часть энер­гии упо­ря­до­чен­но­го дви­же­ния пе­ре­хо­дит в энер­гию элек­тро­маг­нит­но­го из­лу­че­ния. Имен­но так про­ис­хо­дит в плаз­мен­ных уси­ли­телях и ге­не­ра­то­рах элек­тро­маг­нит­ных волн. В свою оче­редь, в ре­гу­ляр­ных по­лях воз­бу­ж­дён­ных в плаз­ме волн сто­рон­ние за­ря­жен­ные час­ти­цы мо­гут при­об­ре­сти упо­ря­до­чен­ную энер­гию (кол­лек­тив­ное ус­ко­ре­ние). В не­ре­гу­ляр­ных по­лях с от­но­си­тель­но ши­ро­ким спек­тром плаз­мен­ных волн за­ря­жен­ные час­ти­цы при­об­ре­та­ют не­упо­ря­до­чен­ную энер­гию вслед­ст­вие по­гло­ще­ния этих волн, и про­ис­хо­дит на­грев плаз­мы. По­сколь­ку пуч­ки за­ря­жен­ных час­тиц мо­гут об­ла­дать весь­ма боль­шой ки­не­тич. энер­ги­ей, то и на­грев плаз­мы мо­жет быть зна­чи­тель­ным, вплоть до тер­мо­ядер­ных тем­пе­ратур. Та­кое воз­мож­но, од­на­ко, толь­ко в слу­чае силь­но­ио­ни­зо­ван­ной плаз­мы. В сла­бо­ио­ни­зо­ван­ной плаз­ме су­ще­ст­вен­ная часть энер­гии пе­ре­да­ёт­ся ней­траль­ным ато­мам и мо­ле­ку­лам, в ре­зуль­та­те че­го про­ис­хо­дит их ра­зо­грев, воз­бу­ж­де­ние, дис­со­циа­ция и ио­ни­за­ция. Эти про­цес­сы, в свою оче­редь, ини­ции­ру­ют но­вый тип раз­ря­да – плаз­мен­но-пуч­ко­вый раз­ряд, но­вые ти­пы хи­мич. ре­ак­ций – т. н. плаз­мен­но-хи­мич. ре­ак­ции, а так­же оп­ре­де­ля­ют ра­бо­ту но­во­го ти­па кван­то­вых ге­не­ра­то­ров – плаз­мен­ных ла­зе­ров и ма­зе­ров, ос­но­ван­ных на пе­ре­хо­дах в ион­ных и ион­но-мо­ле­ку­ляр­ных уров­нях энер­гии.

Достоинства плазменной электроники

В от­ли­чие от ва­ку­ум­ной элек­тро­ни­ки, в ко­то­рой ин­ду­ци­ро­ва­ние из­лу­че­ния по­то­ков за­ря­жен­ных час­тиц про­ис­хо­дит в элек­тро­ди­на­мич. струк­ту­рах – ме­тал­лич. ли­бо ди­элек­трич. вол­но­во­дах и ре­зо­на­то­рах, в П. э. вы­ну­ж­ден­ное из­лу­чение за­ря­жен­ных час­тиц про­ис­хо­дит в плаз­мен­ных вол­но­во­дах и ре­зо­на­то­рах. Как след­ст­вие, в плаз­мен­ных при­бо­рах час­то­та из­лу­че­ния за­ви­сит не толь­ко от гео­мет­рич. раз­ме­ров вол­но­во­дов и ре­зо­на­то­ров, но и от плот­но­сти плаз­мы. По­это­му в П. э. пу­тём из­ме­не­ния плот­но­сти плаз­мы мож­но из­ме­нять час­то­ту из­лу­че­ния в ши­ро­ком диа­па­зо­не. Так, в ре­аль­но ра­бо­таю­щих плаз­мен­ных при­бо­рах при из­ме­не­нии плот­но­сти плаз­мы в пре­де­лах 1010–1019 см–3 уда­ёт­ся воз­бу­ж­дать вол­ны дли­ной λ(10–2–102) см, что пе­ре­кры­ва­ет по­ло­су СВЧ от суб­мил­ли­мет­ро­во­го до де­ци­мет­ро­во­го диа­па­зо­на. Это од­но из су­ще­ст­вен­ных от­ли­чий и пре­иму­ществ плаз­мен­ной элек­тро­ни­ки.

Вто­рое от­ли­чие П. э. от ва­ку­ум­ной элек­тро­ни­ки со­сто­ит в том, что в П. э. про­ис­хо­дит эф­фек­тив­ное воз­бу­ж­де­ние объ­ём­ных мод с дли­ной вол­ны λ , на­мно­го мень­шей гео­мет­рич. раз­ме­ров плаз­мен­ных вол­но­во­дов и ре­зо­на­то­ров. Макс. дос­ти­жи­мая на­пря­жён­ность элек­трич. по­ля в плаз­ме при плот­но­сти плаз­мы np(1014–1018) см–3 со­став­ля­ет 107– 109 В/см. В та­ком по­ле весь­ма эф­фек­тив­но бу­дут ус­ко­рять­ся за­ря­жен­ные час­ти­цы до боль­ших энер­гий на от­но­си­тель­но ма­лых дли­нах (на дли­не в 100 см час­ти­цы мо­гут ус­ко­рять­ся до 103 МэВ). Су­ще­ст­вен­но и то, что при воз­бу­ж­де­нии вы­со­ких мод объ­ём­ных ко­ле­ба­ний ос­лаб­ля­ет­ся воз­мож­ность про­бо­ев на стен­ках плаз­мен­ных вол­но­во­дов (ре­зо­на­то­ров).

Важ­ное пре­иму­ще­ст­во П. э. – воз­мож­ность про­пус­ка­ния пуч­ков с боль­ши­ми то­ка­ми. В ва­ку­ум­ных сис­те­мах то­ки пуч­ков ог­ра­ни­че­ны свер­ху про­странст­вен­ным за­ря­дом. При дви­же­нии по­то­ков за­ря­жен­ных час­тиц в плаз­ме про­ис­хо­дит ком­пен­са­ция объ­ём­но­го за­ря­да и то­ка ин­ду­ци­ро­ван­ны­ми в плаз­ме по­ля­ми и то­ка­ми. Бла­го­да­ря это­му в плаз­мен­ных сис­те­мах воз­мож­но дос­ти­же­ние боль­ших то­ков, а сле­до­ва­тель­но, и боль­ших мощ­но­стей из­лу­че­ния. Так, для пуч­ка с энер­ги­ей 1 МэВ пре­дель­ный плаз­мен­ный ток дос­ти­га­ет 100 кА, а мощ­ность пуч­ка – 100 ГВт, что на­мно­го пре­вы­ша­ет пре­дель­ные зна­че­ния в ва­ку­ум­ных сис­те­мах. При этом ском­пен­си­ро­ван­ные по за­ря­ду пуч­ки бо­лее од­но­род­ны по се­че­нию и по­это­му бо­лее эф­фек­тив­но взаи­мо­дей­ст­ву­ют с элек­тро­маг­нит­ны­ми вол­на­ми в плаз­ме. В ре­зуль­та­те су­ще­ст­вен­но по­вы­ша­ет­ся эф­фек­тив­ность воз­бу­ж­де­ния элек­тро­маг­нит­ных волн по­то­ка­ми за­ря­жен­ных час­тиц и дос­ти­га­ют­ся зна­чи­тель­но бо́льшие мощ­но­сти из­лу­че­ния, чем в ва­ку­ум­ной элек­тро­ни­ке.

В 1970-х гг. поя­ви­лись ис­точ­ни­ки мощ­ных вы­со­ко­энер­ге­тич. элек­трон­ных и ион­ных пуч­ков (энер­гия час­тиц по­ряд­ка 1 МэВ, то­ки 105–106 А). При дли­тель­но­сти им­пуль­са по­ряд­ка 10 –7  с пол­ная энер­гия в та­ких пуч­ках пре­вы­ша­ет 106 Дж, что впол­не дос­та­точ­но для ини­ции­ро­ва­ния тер­мо­ядер­ной вспыш­ки в дей­те­рий-три­тие­вых ми­ше­нях мил­ли­мет­ро­во­го диа­мет­ра. Инер­ци­аль­ный УТС с ис­поль­зо­ва­ни­ем ин­тен­сив­ных ион­ных пуч­ков счи­та­ет­ся од­ним из наи­бо­лее пер­спек­тив­ных и ин­тен­сив­но раз­ви­ва­ет­ся.

Релятивистская плазменная электроника

Мощ­ные ме­га­вольт­ные элек­трон­ные пуч­ки от­кры­ли но­вые пер­спек­ти­вы пе­ред П. э., свя­зан­ные с ре­ля­ти­виз­мом элек­тро­нов. Раз­ви­тию ре­ля­ти­ви­ст­ской П. э. спо­соб­ст­во­ва­ло уве­ли­че­ние эф­фек­тив­но­сти плаз­мен­но-пуч­ко­во­го взаи­мо­дей­ст­вия. По­это­му с по­яв­ле­ни­ем мощ­ных ис­точ­ни­ков ре­ля­ти­ви­ст­ских элек­трон­ных пуч­ков ста­ла бур­но раз­ви­вать­ся ре­ля­ти­ви­ст­ская плаз­мен­ная СВЧ-элек­тро­ни­ка. Ре­ля­ти­ви­ст­ские ско­ро­сти и боль­шие то­ки из­ме­ня­ют ха­рак­тер взаи­мо­дей­ст­вия силь­но­точ­ных ре­ля­ти­ви­ст­ских элек­трон­ных пуч­ков с плаз­мой. Тот факт, что при силь­ном ре­ля­ти­виз­ме элек­тро­нов да­же зна­чит. по­те­ри энер­гии не на­ру­ша­ют ус­ло­вие че­рен­ков­ско­го ре­зо­нан­са, про­яв­ля­ет­ся в уве­ли­че­нии кпд ге­не­ра­ции элек­тро­маг­нит­но­го из­лу­че­ния. Так, при пуч­ке с энер­ги­ей 1 МэВ и то­ком в 25 кА кпд дос­ти­га­ет 20%, т. е. 20% элек­трич. энер­гии пуч­ка мо­жет пе­рей­ти в энер­гию элек­тро­маг­нит­но­го из­лу­че­ния; при этом мощ­ность из­лу­че­ния со­ста­вит 5 ГВт. По­сколь­ку фа­зо­вая ско­рость элек­тро­маг­нит­ных волн в этом слу­чае очень близ­ка к ско­ро­сти све­та, всё из­лу­че­ние прак­тиче­ски без по­терь бу­дет вы­хо­дить из плаз­мы (по­те­ри вслед­ст­вие от­ра­же­ния от по­верх­но­сти плаз­мы не пре­вы­ша­ют 2,5%). Та­кие па­ра­мет­ры уже реа­ли­зо­ва­ны в экс­пе­ри­мен­тах.

Силь­но­точ­ные ре­ля­ти­ви­ст­ские элек­трон­ные пуч­ки име­ют ещё од­но пре­иму­ще­ст­во. Они мо­гут ини­ции­ро­вать плаз­мен­но-пуч­ко­вый раз­ряд и соз­да­вать плаз­му вы­со­кой плот­но­сти в разл. плаз­мо­хи­мич. ре­ак­то­рах. Об­ла­дая боль­шой энер­ги­ей в це­лом, ре­ля­ти­ви­ст­ские элек­трон­ные пуч­ки спо­соб­ны обес­пе­чить боль­шой вы­ход в од­ном им­пуль­се и вы­со­кую ср. мощ­ность при ис­поль­зо­ва­нии пуч­ков им­пульс­но-пе­рио­дич. ре­жи­мов, а вы­со­кая энер­гия элек­тро­нов обу­слов­ли­ва­ет хо­ро­шую од­но­род­ность плаз­мо­хи­мич. ре­ак­то­ров да­же при очень боль­ших дав­ле­ни­ях га­за в них, на­мно­го пре­вы­шаю­щих ат­мо­сфер­ное. Имен­но бла­го­да­ря этим пре­иму­ще­ст­вам на плаз­мен­но-пуч­ко­вом раз­ря­де с ис­поль­зо­ва­ни­ем силь­но­точ­ных ре­ля­ти­ви­ст­ских элек­трон­ных пуч­ков ре­али­зо­ва­ны хи­ми­че­ские ла­зе­ры на во­до­ро­до-фто­ри­стых сме­сях, даю­щие ко­ге­рент­ное из­лу­че­ние на дли­не вол­ны λ3 мкм с энер­ги­ей до не­сколь­ких ки­лод­жо­улей в им­пуль­се дли­тель­но­стью τ100 нc и об­ла­даю­щие кпд по от­но­ше­нию к энер­говк­ла­ду пуч­ка в газ до 700%. Соз­да­ны эк­си­мер­ные плаз­мен­ные ла­зе­ры на сме­сях Аr–Fr–Кr суб­мик­рон­но­го диа­па­зо­на длин волн с энер­ги­ей до 1 кДж в им­пуль­се дли­тель­но­стью t40 нc и кпд до 10%.

Лит.: Файн­берг Я. Б. Ус­ко­ре­ние час­тиц в плаз­ме // Атом­ная энер­гия. 1959. Т. 6. Вып. 4; он же. Не­ко­то­рые во­про­сы плаз­мен­ной элек­тро­ни­ки // Фи­зи­ка плаз­мы. 1985. Т. 11. Вып. 11; Плаз­мен­ные и элек­трон­ные уси­ли­те­ли и ге­не­ра­то­ры СВЧ. М., 1965; Ра­би­но­вич М. С., Ру­хад­зе А. А. Прин­ци­пы ре­ля­ти­ви­ст­ской СВЧ плаз­мен­ной элек­тро­ни­ки // Фи­зи­ка плаз­мы. 1976. Т. 2. Вып. 5; Ку­зе­лев М. В. и др. Ре­ля­ти­ви­ст­ская силь­но­точ­ная плаз­мен­ная СВЧ элек­тро­ни­ка: пре­иму­ще­ст­ва, дос­ти­же­ния, пер­спек­ти­вы // Там же. 1987. Т. 13. Вып. 11; Ку­зе­лев М. В., Ру­хад­зе А. А., Стрел­ков П. С. Плаз­мен­ная ре­ля­ти­ви­ст­ская СВЧ элек­тро­ни­ка. М., 2002; Ку­зе­лев М. В., Ру­хад­зе А. А. Ме­то­ды тео­рии волн в сре­дах с дис­пер­си­ей. М., 2007.

Вернуться к началу