Подпишитесь на наши новости
Вернуться к началу с статьи up
 

ПИНЧ-ЭФФЕ́КТ

  • рубрика

    Рубрика: Физика

  • родственные статьи
  • image description

    В книжной версии

    Том 26. Москва, 2014, стр. 229

  • image description

    Скопировать библиографическую ссылку:




Авторы: Н. А. Боброва

ПИНЧ-ЭФФЕ́КТ (от англ. pinch – сжа­тие, су­же­ние), сжа­тие шну­ра плаз­мы, не­су­ще­го элек­трич. ток, под дей­ст­ви­ем маг­нит­но­го по­ля, соз­да­вае­мо­го этим то­ком. П.-э. впер­вые опи­сан в 1934 амер. фи­зи­ком У. Бен­нет­том в свя­зи с про­бле­мой са­мо­фо­ку­си­ров­ки сгу­ст­ка бы­ст­рых элек­тро­нов, вы­бра­сы­вае­мых при сол­неч­ной вспыш­ке в раз­ре­жен­ную меж­пла­нет­ную плаз­му. Тер­мин «П.-э.» вве­дён в 1937 амер. фи­зи­ком Л. Тон­ксом для опи­са­ния про­цес­сов, про­ис­хо­дя­щих в ду­го­вом раз­ря­де.

П.-э. воз­ни­ка­ет, ко­гда маг­нит­ное дав­ле­ние плаз­мы пре­вы­ша­ет ки­не­ти­че­ское; при этом воз­мож­ны два ре­жи­ма в за­ви­си­мо­сти от от­но­сит. ве­ли­чи­ны элек­тро­про­вод­но­сти плаз­мы, оп­ре­де­ляю­щей вре­мя про­ник­но­ве­ния по­ля в плаз­му. В пер­вом ре­жи­ме маг­нит­ное по­ле не про­ни­ка­ет в хо­ро­шо про­во­дя­щую плаз­му; это клас­си­че­ский П.-э. Во вто­ром ре­жи­ме с ма­лы­ми вре­ме­на­ми про­ник­но­ве­ния по­ля по срав­не­нию с вре­ме­нем раз­ря­да маг­нит­ное по­ле ус­пе­ва­ет про­диф­фун­ди­ро­вать в плаз­му; при этом элек­трич. по­ле од­но­род­но внут­ри плаз­мы. Этот ре­жим на­зы­ва­ет­ся не­ски­ни­ро­ван­ным пин­чем.

Неогpаниченный по оси $z$ цилиндpи­чески-симметpичный плаз­мен­ный шнуp яв­ля­ет­ся рав­но­вес­ным $Z$-пин­чем, ко­гда элек­трич. ток те­чёт вдоль оси $z$, а маг­нит­ное по­ле име­ет толь­ко ази­му­таль­ную ком­по­нен­ту, или рав­но­вес­ным $θ$-пин­чем, в ко­то­ром маг­нит­ное по­ле на­прав­ле­но вдоль оси $z$, а элек­трич. ток име­ет толь­ко ази­му­таль­ную ком­по­нен­ту. Кро­ме этих кон­фи­гу­ра­ций пин­чей, су­ще­ст­ву­ют ка­пил­ляр­ные пин­чи, плаз­мен­ный фо­кус, тон­кие взры­ваю­щие­ся про­во­лоч­ки и др.

Впеpвые за­да­ча о pавновесном $Z$-пин­че бы­ла pассмотpена У. Бен­нет­том, ко­то­рый из ус­ло­вия ме­ха­нич. рав­но­ве­сия (ра­вен­ст­ва гра­ди­ен­та дав­ле­ния плаз­мы си­ле Ам­пе­ра) по­лу­чил т. н. ус­ло­вие Бен­нет­та: $2c^2(T_i+yT_e)N=I^2$ (ус­ло­вие рав­но­вес­но­го пин­ча). Здесь $N$ – чис­ло ио­нов, $T_i, T_e$ – темп-pы ио­нов и элек­тро­нов, $I$ – пол­ный ток, про­те­каю­щий че­рез пинч, $c$ – ско­рость све­та; плаз­ма пpедставляет со­бой иде­аль­ный газ, в ко­то­ром вслед­ст­вие квази­ней­т­pальности $n_e=yn_i$ ($n_e, n_i$ – кон­цен­тра­ции элек­тро­нов и ионов плаз­мы).

В вы­со­ко­тем­пе­ра­тур­ной плаз­ме по­те­ри энер­гии на из­лу­че­ние мо­гут иг­рать важ­ную роль. Изу­чая рав­но­ве­сие плаз­мы с учё­том этих по­терь, Р. Пиз (США) и С. И. Бра­гин­ский (СССР) об­на­ру­жи­ли в кон. 1950-х гг. яв­ле­ние ра­диа­ци­он­но­го кол­лап­са. Суть его со­сто­ит в сле­дую­щем. Ес­ли па­ра­мет­ры плаз­мы та­ко­вы, что осн. по­те­ри энер­гии на из­лу­че­ние яв­ля­ют­ся тор­моз­ны­ми, то темп-ра плаз­мы не рас­тёт с уве­ли­че­ни­ем плот­но­сти и га­зо­вое дав­ле­ние не мо­жет урав­но­ве­сить маг­нит­ное дав­ле­ние. Про­ис­хо­дит без­ос­та­но­воч­ное сжа­тие пин­ча. Од­на­ко с рос­том плот­но­сти плаз­ма ста­но­вит­ся не­про­зрач­ной для из­лу­че­ния и пинч ста­би­ли­зи­ру­ет­ся на не­ко­то­ром ра­диу­се. Кри­тич. ток, при ко­то­ром оми­че­ский нагpев ра­вен потеpям энер­гии на из­лу­че­ние, на­зы­ва­ет­ся то­ком Пи­за – Бра­гин­ско­го.

$Z$-пинч – мощ­ный ис­точ­ник ней­тро­нов, жё­ст­ко­го и мяг­ко­го рент­ге­нов­ско­го из­лу­че­ния, бы­ст­рых ио­нов и ре­ля­ти­вист­ских элек­тро­нов. По­сколь­ку ге­не­ра­ция из­лу­че­ния и бы­ст­рых час­тиц пред­по­ла­га­ет раз­ви­тие не­рав­но­вес­ных про­цес­сов, тре­бу­ет­ся ре­ше­ние не­ли­ней­ной маг­ни­то­гид­ро­ди­на­ми­че­ской (МГД) за­да­чи о сжа­тии плаз­мен­но­го стол­ба. Эта за­да­ча бы­ла ре­ше­на В. Ф. Дья­чен­ко и В. С. Им­шен­ни­ком, ко­то­рые фи­зич. кар­ти­ну про­цес­сов в ди­на­ми­че­ском $Z$-пин­че опи­са­ли сле­дую­щим об­ра­зом. По­сле вклю­че­ния им­пульс­но­го то­ка ме­ж­ду ка­то­дом и ано­дом сна­ча­ла фор­ми­ру­ет­ся тон­кая то­ко­вая обо­лоч­ка. В ус­та­нов­ках плаз­мен­но­го фо­ку­са и ли­ней­но­го $Z$-пин­ча для га­зо­вой сре­ды она фор­ми­ру­ет­ся вдоль изо­ля­то­ра, в слу­чае взры­ваю­щих­ся про­во­ло­чек или ди­элек­трич. ни­тей – на по­верх­но­сти про­во­лоч­ки или ни­ти. За­тем про­ис­хо­дит раз­ви­тие ак­си­аль­но-сим­мет­рич­ной мо­ды, ко­то­рое при­во­дит к умень­шению ра­диу­са пе­ре­тяж­ки и ку­му­ля­ции в ней энер­гии. Сжа­тие со­про­во­ж­да­ет­ся об­ра­зо­ва­ни­ем схо­дя­щей­ся к оси удар­ной вол­ны. Вре­мя это­го сжа­тия (пин­че­ва­ния) плаз­мы рав­но $t_c=v_A/R$, где $v_A$ – аль­венов­ская ско­рость, $R$ – ра­ди­ус пин­ча. В ре­зуль­та­те схо­ж­де­ния удар­ной вол­ны око­ло оси пин­ча об­ра­зу­ет­ся об­ласть го­ря­чей плот­ной плаз­мы. На не­ко­то­ром ра­диу­се пе­ре­тяж­ка ста­би­ли­зи­ру­ет­ся и не ис­че­за­ет в те­че­ние не­сколь­ких де­сят­ков ха­рак­тер­ных МГД-вре­мён $∼t_c$. Имен­но на этой ста­дии раз­ви­тия $Z$-пин­ча про­ис­хо­дит ге­не­ра­ция ней­тро­нов и рент­ге­нов­ско­го из­лу­че­ния. Да­лее из-за вы­со­ко­го дав­ле­ния пинч на­чи­на­ет рас­ши­рять­ся. При $t\gt t_c$ МГД-не­ус­той­чи­во­сти раз­ру­ша­ют од­но­род­ность пин­ча, при­во­дят к тур­бу­лент­но­му пе­ре­ме­ши­ва­нию, уве­ли­че­нию элек­трон­ной те­п­ло­про­вод­но­сти и элек­трич. со­про­тив­ле­ния плаз­мы. Пе­ре­тяж­ка те­ря­ет свою ус­той­чи­вость и раз­ва­ли­ва­ет­ся, что со­про­во­ж­да­ет­ся фор­ми­ро­ва­ни­ем ко­рот­ко­жи­ву­щих ис­точ­ни­ков рент­ге­нов­ско­го из­лу­че­ния (го­ря­чих то­чек).

Ка­пил­ляр­ные пин­чи от­ли­ча­ют­ся от клас­си­че­ских $Z$-пин­чей на­ли­чи­ем сте­нок, т. е. в них раз­ряд (т. н. ка­пил­ляр­ный раз­ряд) про­ис­хо­дит внут­ри тон­ко­го ка­на­ла. Для соз­да­ния ка­пил­ляр­но­го раз­ря­да к кон­цам га­зо­на­пол­нен­но­го или пус­то­го ка­пил­ля­ра при­кла­ды­ва­ет­ся им­пульс­ное на­пря­же­ние, воз­бу­ж­даю­щее элек­трич. ток, взаи­мо­дей­ст­вие ко­то­ро­го с га­зом и со стен­ка­ми ка­пил­ля­ра соз­да­ёт плот­ную го­ря­чую плаз­му с кон­тро­ли­руе­мы­ми па­ра­мет­ра­ми.

Ис­сле­до­ва­ния ка­пил­ляр­ных раз­ря­дов при­ве­ли к соз­да­нию ком­пакт­ных рент­ге­нов­ских ла­зе­ров в об­лас­ти жё­ст­ко­го УФ-из­лу­че­ния и мяг­ко­го рент­ге­нов­ско­го из­лу­че­ния, ра­бо­та ко­то­рых ос­но­ва­на на фор­ми­ро­ва­нии схо­дя­щей­ся удар­ной вол­ной в при­осе­вой об­лас­ти плот­но­го из­лу­чаю­ще­го плаз­мен­но­го во­лок­на. Та­кие рент­ге­нов­ские ла­зе­ры при­ме­ня­ют­ся в атом­ной и мо­ле­ку­ляр­ной спек­тро­ско­пии, био­фи­зи­ке, ме­ди­ци­не, ли­то­гра­фии, ма­те­риа­ло­ве­де­нии и ди­аг­но­сти­ке плот­ной плаз­мы.

Др. при­ме­не­ние ка­пил­ляр­ных раз­ря­дов свя­за­но с тем, что в ре­зуль­та­те раз­ви­тия раз­ря­да на ква­зи­рав­но­вес­ной ста­дии внут­ри ка­на­ла фор­ми­ру­ет­ся ра­ди­аль­ный про­филь плот­но­сти плаз­мы, оп­ти­маль­ный для ка­на­ли­ро­ва­ния ульт­ра­ко­рот­ких ла­зер­ных им­пуль­сов боль­шой мощ­но­сти. По­это­му ка­пил­ляр­ные вол­но­во­ды ши­ро­ко при­ме­ня­ют­ся в ла­зер­ных ус­ко­ри­те­лях ульт­ра­ре­ля­ти­ви­ст­ских элек­тро­нов. Напр., в Берк­ли­ев­ской нац. ла­бо­ра­то­рии (США) бы­ли по­лу­че­ны пуч­ки ус­ко­рен­ных элек­тро­нов с энер­ги­ей св. 1 ГэВ при ка­на­ли­ро­ва­нии фем­то­се­кунд­но­го ла­зер­но­го им­пуль­са мощ­но­стью 40 ТВт внут­ри ка­пил­ля­ра дли­ной в неск. сан­ти­мет­ров.

Лит.: Бра­гин­ский С. И. О по­ве­де­нии пол­но­стью ио­ни­зо­ван­ной плаз­мы в силь­ном маг­нит­ном по­ле // Жур­нал экс­пе­ри­мен­таль­ной и тео­ре­ти­че­ской фи­зи­ки. 1957. Т. 33. Вып. 3; Rocca J. J. Table-top soft X-ray lasers // Re­view of Scientific Instruments. 1999. Vol. 70. № 10; Leemans W. P. a. o. GeV electron beams from centimetre-scale accelerator // Nature Physics. 2006. Vol. 2. № 10; Эн­цик­ло­пе­дия низ­ко­тем­пе­ра­тур­ной плаз­мы. М., 2007. Се­рия Б. Т. IX–2: Вы­со­ко­энер­ге­тич­ная плаз­мо­ди­на­ми­ка.

Вернуться к началу